国家重点研发计划“战略性科技创新合作”重点专项项目启动会顺利召开

6月18日，国家重点研发计划“战略性科技创新合作”重点专项——“基于高功率高次谐波的极紫外干涉光刻技术研究”项目启动会暨实施方案论证会在上海科技大学举行。项目专家组成员、项目骨干、依托单位和外方合作单位代表等出席会议。会议由上科大国际事务处（港澳台办）副处长聂焱与专家组组长、上海理工大学刘一教授共同主持。

校党委副书记、副校长江舸表示，学校将切实履行依托单位责任，加强过程管理，统筹协调各方资源，全力保障项目高质量实施，推动创新成果产出。

专家组在审阅项目材料的基础上，听取了项目负责人彭鹏教授关于项目立项背景、研究目标、任务分工及技术路线的专题汇报，瑞士合作方谢新华研究员进行了线上致辞。与会专家围绕高功率高次谐波产生、极紫外光刻系统优化、极紫外光与近红外驱动激光的高效分离等关键技术问题展开研讨，提出了建设性意见。经讨论，专家组一致认为：项目实施方案科学合理，技术路线可行，同意通过论证。同时，专家组建议以项目实施为纽带，进一步深化中瑞双方在极紫外光刻领域的产学研合作。

“基于高功率高次谐波的极紫外干涉光刻技术研究”项目依托单位为上海科技大学，国内合作单位为中国科学院上海光学精密机械研究所，国际合作单位为瑞士保罗谢尔研究所。项目执行期为2025年1月至2027年12月。该项目聚焦极紫外光刻胶感光度与图形化能力的测试难题，研制基于高次谐波技术的高功率极紫外光源和高数值孔径干涉光刻装置，为光刻胶性能检测提供桌面型曝光平台。项目专家组成员包括：上海理工大学刘一教授、南京理工大学金成教授、吉林大学罗嗣佐教授、张江实验室刘军研究员和郑颖辉研究员。