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题目（Title）：
《造芯大讲堂》2025年第六讲：《磁控溅射镀膜原理及常见技术问题分析》
主讲人（Speaker）：
胡爱宾
开始时间（Start Time）：
2025-05-09 13:30
结束时间（End Time）：
2025-05-09 15:30
会议地点（Place）：
材料器件中心S209会议室
主办单位（Organization）：
材料器件中心
协办单位(Co-organizer)：
简介（Brief Introduction）：
1.磁控溅射的原理
2.膜厚均匀性及沉积速率的计算方法
3.各类磁控溅射电源
4.磁控溅射的优缺点及常规磁控溅射的问题
2.膜厚均匀性及沉积速率的计算方法
3.各类磁控溅射电源
4.磁控溅射的优缺点及常规磁控溅射的问题
沪公网安备 31011502006855号